K používání a měření webu využíváme cookies. Používáním tohoto webu souhlasíte se způsobem, jakým s cookies nakládáme. Další informace

MicroWriter ML3

VÝROBCE: LOT Quantum Design KATEGORIE:

MicroWriter ML®3 je přístroj určený pro přímou (bezmaskovou) optickou litografii (maskless optical lithography, nebo také direct laser writing). Jedná se o metodu umožňující výrobu elementů se sub-mikronovým rozlišením unikátně vysokou rychlostí zápisu. Microwriter ML3 je svými parametry je ideální pro účely výzkumu a vývoje a pro tvorbu prototypů.

Aplikace

Přístroje umožňují rychlý a jednoduchý návrh a přípravu:

  • MEMS/NEMS struktur
  • lab-on-a-chip a mikrofluidních elementů
  • difraktivních struktur
  • prvků pro THz aplikace
  • struktur pro mikroelektroniku a spintroniku.

 MicroWriter rovněž umožňuje si vytvořenou strukturu zobrazit a případně upravit nebo doplnit díky automatickému zarovnání vzorku.

 Hlavní přednosti

  • Rozlišení až 600 nm
  • Rychlost zápisu až 180 mm2/min
  • Automatická volba rozlišení
  • Vizualizace struktury na obraz vzorku před zápisem
  • Možnost realizace 3-D struktur
  • Korekce nerovností vzorku (wedge/bow)
  • Uživatelsky přívětivý software
  • Skvělý poměr cena / výkon

Máte zájem o MicroWriter ML3
Potřebujete radu?

KONTAKTUJTE NÁS
REFERENČNÍ PROJEKT: Laserový litografický systém

 Přímý bezmaskový zápis výrazně snižuje časovou i finanční náročnost při kusové produkci a tvorbě prototypů. Díky automatické volbě rozlišení je uživateli navíc umožněno zapisovat struktury vysokou rychlostí při zachování optimálního rozlišení v celé oblasti zápisu. Automatická fokusace společně s nástrojem pro inspekci povrchu substrátu umožňuje zápis i na nerovné, šikmé a prohnuté substráty.

 Virtual Mask Aligner (VMA) je nástroj pro promítnutí zapisované struktury na živý obraz vzorku z kamery. Tento nástroj zjednodušuje manipulaci při mikrokontaktování, při zápisu na již existující struktury a při více-krokovém zápisu.

 Povrch struktury zobrazený pomocí dat z integrovaného profiloměru Microwriteru ML3Integrovaný profiloměr nabízí možnost náhledu povrchového profilu vzorku a současně umožňuje automatické provádění korekcí nerovností během zápisu. Software umožňuje zobrazení profilu v řezech podél os x a y, případně export dat pro další analýzu.

 Výšková korekce během zápisu (funkce focus lock) umožňuje zápis na nerovné (šikmé, vyboulené, atd.) substráty.

 Nástroj Wide Field Viewer umožňuje široký náhled na vzorek pomocí stitchingu snímků z kamery s volitelným zvětšením pomocí přítomných mikroskopových objektivů. To usnadňuje hledání malých elementů na vzorcích o velké ploše.

 Automatické rozpoznání markerů a zarovnání vzorku usnadňuje vícenásobné zápisy do fotorezistu a zvyšuje opakovatelnost při zápisu struktur. Přístroj je navíc možné rozšířit o nástroj pro hledání markerů na spodní straně substrátu (backside alignment).

 Volitelnost vlnové délky osvitu (385 nm nebo 405 nm) umožňuje zápis na širokou škálu fotorezistů (broadband, g-, h-, i- line pozitivní i negativní rezisty včetně populárního SU-8).

 Výhodou jsou extrémně nízké provozní náklady.

Máte zájem o MicroWriter ML3? Potřebujete radu?

Pomůže Vám specialita sekce Richard Schuster , případně využijte naše další kontakty.

KONTAKTNÍ FORMULÁŘ