K používání a měření webu využíváme cookies. Používáním tohoto webu souhlasíte se způsobem, jakým s cookies nakládáme. Další informace

Optický litografický systém

Klient: Vysoká škola chemicko-technologická v Praze

V srpnu 2017 jsme na Vysoké škole chemicko-technologické v Praze nainstalovali optický litografický systém s přímým zápisem do fotorezistu, model MicroWriter ML3 Baby Plus.

MicroWriter je flexibilní fotolitografický systém určený primárně pro tvorbu prototypů a účely výzkumu, vývoje a maloobjemové produkce. Litografický proces spočívá v interakci úzkého světelného svazku vysoké intenzity pohybujícího se po povrchu vzorku s vrstvou fotorezistu. Následně je záznam vyvolán a případně dále upravován (například naprášním kovové vrstvy).

Nainstalovaná verze MicroWriteru ML3 Baby Plus pracuje se zdrojem záření o vlnové délce 385 nm, což umožňuje zápis do široké škály fotorezistů (g-, h-, i- line včetně např. SU-8).
Systém umoňuje dosáhnout rozlišení až 1 µm s možností upgrade na 0,6 µm.

Mezi hlavní přednosti zařízení patří vysoká rychlost zápisu, velká pracovní plocha, funkce integrovaného profiloměru a schopnost dělat korekce na výškové nerovnosti před vlastním zápisem. Uživatelé jistě ocení také snadné ovládání, možnost zápisu "ve stupních šedi" umožňující tvorbu 3D struktur a volitelně i možnost vizualizace struktury na živě přenášený obraz vzorku před samotným zápisem pro přesné zarovnání na existující strukturu (nástroj Virtual Mask Aligner).

Parametry

  • Velikost substrátu: až 230 mm x 230 mm x 15 mm (bez dolního omezení)
  • Maximální zapisovatelná plocha: 149 mm x 149 mm (možnost rozšíření na 195 mm x 195 mm)
  • Dosahované rozlišení: 1 µm, 5 µm (možnost rozšíření o 0,6 µm a 2 µm)
  • Dostupné vlnové délky: 385 nm (standardně 405 nm)
  • Zapisovací rychlost: 20 mm2/min při 1 µm, 120 mm2/min při 5 µm