Lasery a přístrojová technika

Bezmaskový litograf Microwriter ML3 Pro

  • Vysoké rozlišení zápisu
  • Teplotní i vibrační stabilita systému
  • Nejvyšší konfigurace systému s vysokou variabilitou
  • Fotonika, mikrofluidika, senzorika

Zadání a požadavky klienta

Sestava umožňující zápis struktur s vysokým rozlišením a vysokou opakovatelností.

Možnost zápisu na velké plochy i na několik sub-milimetrových fragmentů současně.

Možnost kompletního vzdáleného ovládání přístroje.

Možnost vícenásobného zápisu s přesným zarovnáním a možností virtuálního náhledu před zápisem.

Zdroj osvitu sestavy musel být vhodný pro širokou škálu fotorezistů (g-, h-, i- line a broadband fotorezisty).

Teplotně i vibračně stabilní systém pro časově náročné, velkoplošné zápisy ve vysokém rozlišení.

Dále:

  • Tvorba sub-mikronových struktur s přesným zarovnáním
  • Rychlý, velkoplošný zápis se stabilizací teploty
  • Vysoké rozlišení zápisu: 600 nm
  • Možnost velkoplošných zápisů až 195 mm x 195 mm
  • Tvorba fotonických, senzorických i mikrofluidních struktur

Naše řešení

Microwriter ML3 Pro od britského výrobce Durham Magneto Optics Ltd. (DMO) na anti-vibračním stole CleanBench od amerického TMC.

Jedná se o sestavu s volitelným rozlišením (od 600 nm do 5 um), s vysoce přesným polohovacím systémem s interferometrickým odměřováním, plně optickým autofokusem a teplotní stabilizací.

Zdroj osvitu s vlnovou délkou 385 nm a vysokým optickým výkonem a dlouhou životností umožňuje zápis na běžné g-line a h-line fotorezisty, ale také oblíbený i-line fotorezist SU-8.

Teplotní stabilizace zajišťuje maximální stabilitu i pro delší zapisovací úlohy.

Funkce integrovaného profilometru umožňuje mj. ověření zápisu po vyvolání struktury.

Funkce Virtual mask aligner (VMA) pro přesné zarovnání zápisu na existující struktury poslouží pro přesné a snadné mikro-kontaktování. Možnost zápisu ve stupních šedi.

Parametry zařízení

  • Vlnová délka zdroje: 385 nm
  • Teplotní stabilizace: ± 0,25 °C
  • Rozlišení zápisu: 600 nm, 1000 nm, 2000 nm a 5000 nm
  • Počet objektivů: 4 (zvětšení 3x až 20x + digitální zoom)
  • Další funkce: VMA, wide field viewer, integrovaný profilometr, autofocus, focus lock, virtuální rotace, automatické centrování vzorku, automatická detekce hran

Související produkty

Další fotografie

Projekt vedl
Richard SchusterRichard Schuster
Kontaktovat obchodníka s podobným projektem
Role optixs v projektu
  • Návrh vhodné sestavy
  • Dodání systému
  • Instalace, kalibrace a školení obsluhy
  • Servis, technická i aplikační podpora
Termín realizace

Srpen 2023

Informace o cookies na této stránce

Rádi bychom používali cookies. Umožní nám získat přehled o návštěvnosti webu, lépe cílit reklamu a vylepšovat naše služby.

Více informací

Nastavení cookies

Vaše soukromí je důležité. Používání souborů cookie si můžete vybrat, jak je popsáno níže. Vaše preference mohou být kdykoli změněny.