Anfang Oktober 2016 haben wir amInstitut für Photonik und Elektronik ein Laser-Lithografiesystem mit Direktbelichtung, das Modell MicroWriter ML2, installiert. Es wird dort zur Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen sowie funktionalen biomolekularen Assemblagen im Rahmen der Forschungzu optischen Sensoren und Oberflächenplasmonen eingesetzt.
Der MicroWriteristein flexiblesFotolithografiesystem, das für Entwicklungs- und Prototypenarbeiten sowie für die Produktion kleiner Stückzahlen konzipiert ist. Es nutzt Methoden der direkten Laserbeschriftung bei Wellenlängen von 405 nm, 365 nm und nun auch 385 nm. Das System ermöglicht eine Auflösung von bis zu 0,6 µm. Zu den Hauptvorteilen zählen eine hohe Beschriftungsgeschwindigkeit, eine große Arbeitsfläche, die Fähigkeit, die Oberfläche zu kartieren und vor der eigentlichen Beschriftung Korrekturen bei Höhenunterschieden vorzunehmen, sowie eine einfache Bedienung.
Parameter
- Substratgröße: 230 mm x 230 mm x 15 mm
- Maximale Beschriftungsfläche: 195 mm x 195 mm
- Erreichbare Auflösung: 0,6 µm, 1 µm, 2 µm, 5 µm
- Verfügbare Wellenlängen: standardmäßig 385 nm, alternativ 405 nm und 365 nm
- Schreibgeschwindigkeit: 25mm²/min bis 180mm²/Minute
