Im August 2017 haben wir ander Technischen Universität für Chemie und Technologie in Prag ein optisches Lithografiesystem mit Direktbelichtung des Fotolacks installiert, das ModellMicroWriter ML3 Baby Plus.
Der MicroWriter istein flexiblesFotolithografiesystem, das in erster Linie für die Prototypenerstellung sowie für Forschungs-, Entwicklungs- und Kleinserienfertigungszwecke konzipiert ist. Der Lithografieprozess beruht auf der Wechselwirkung eines schmalen, hochintensiven Lichtstrahls, der über die Oberfläche der Probe läuft, mit einer Fotolackschicht. Anschließend wird die Belichtung entwickelt und gegebenenfalls weiterbearbeitet (beispielsweise durch Aufdampfen einer Metallschicht).
Die installierte Versiondes MicroWriter ML3 Baby Plus arbeitet miteiner Lichtquelle mit einer Wellenlänge von 385 nm, was das Belichten einer breiten Palette von Fotolacken ermöglicht (g-, h-, i-Linie, einschließlich z. B. SU-8).
Das System ermöglicht eine Auflösung von bis zu 1 µm mit der Option auf ein Upgrade auf 0,6 µm.
Zu den Hauptvorteilen des Geräts zählen die hohe Belichtungsgeschwindigkeit, die große Arbeitsfläche, die Funktion eines integrierten Profilometers sowie die Möglichkeit, vor der eigentlichen Belichtung Korrekturen bei Höhenunebenheiten vorzunehmen. Die Anwender werden sicherlich auch die einfache Bedienung, die Möglichkeit der „Graustufen“-Belichtung zur Erstellung von 3D-Strukturen sowie optional die Visualisierung der Struktur auf einem live übertragenen Bild der Probe vor der eigentlichen Belichtung zur präzisen Ausrichtung auf eine bestehende Struktur (Tool „Virtual Mask Aligner“).
Parameter
- Substratgröße: bis zu 230 mm x 230 mm x 15 mm (ohne untere Begrenzung)
- Maximale Beschriftungsfläche: 149 mm x 149 mm (erweiterbar auf 195 mm x 195 mm)
- Erreichbare Auflösung: 1 µm, 5 µm (erweiterbar um 0,6 µm und 2 µm)
- Verfügbare Wellenlängen: 385 nm (standardmäßig 405 nm)
- Schreibgeschwindigkeit: 20mm²/min bei 1 µm, 120mm²/min bei 5 µm
