| Modell |
ML® 3 Baby |
ML® 3 Baby Plus |
ML® 3 Mesa |
ML® 3 Pro |
ML® 3 Pro XL |
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Auflösung
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1 – 5 µm
(1 Objektiv)
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bis 0,6 – 5 µm
(2 Objektive)
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0,6 – 5 µm
(3 Objektive)
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bis 0,4 – 5 µm
(bis zu 5 Objektive)
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bis zu 0,4 – 5 µm
(bis zu 5 Objektive)
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| Aufzeichnungsgeschwindigkeit [mm2/min] |
50 |
50 – 180 |
17 – 180 |
10 – 180 |
10 – 180 |
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Wellenlänge [nm]
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405
(und/oder 365, 385)
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405
(und/oder 365, 385)
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405
(und/oder 365, 385)
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385
(und/oder 365, 385)
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385
(und/oder 365, 385)
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Mikroskopobjektive
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3- bis 10-fach
(1 Stück aus dem Angebot)
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3- bis 20-fach
(2 Stück aus dem Angebot)
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3- bis 20-fach
(3 Stück aus dem Angebot)
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3- bis 50-fach
(bis zu 5 Stück aus dem Angebot)
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3x bis 50x
(bis zu 5 Stück aus dem Angebot)
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| Graustufen-Lithografie |
ja (255 Stufen) |
ja (255 Stufen) |
ja (255 Stufen) |
ja (bis zu 768 Stufen) |
ja (bis zu 768 Stufen) |
| Auflösung des XY-Positioniertisches [nm] |
15 |
15 |
15 |
4 |
4 |
| Auflösung des XY-Interferometers [nm] |
15 |
15 |
15 |
1 |
1 |
| Min. adressierbares Gitter [nm] |
100 |
60 |
30 |
30 (Option: 12,5) |
30 (Option: 12,5) |
| Maximale Substratabmessungen [mm] |
155 x 155 x 7 |
155 x 155 x 7 |
155 x 155 x 7 |
230 x 230 x 15 |
bis zu 300 x 300 x 175 |
| Schreibbereich [mm] ohne Einschränkungen in den Ecken |
149 x 149 |
149 x 149 |
149 x 149 |
195 x 195 |
295 x 295 |
| Optischer Profilmesser |
nein |
ja |
ja |
ja |
ja |
| Virtual Mask Aligner |
nein |
optional |
optional |
ja
|
ja
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| Option für mehrere Chips |
nein |
optional |
optional |
ja
|
ja
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| Temperaturstabilisierung |
nein |
optional |
optional |
ja |
ja |
| Optiktisch zur Schwingungsisolierung |
optional |
optional |
optional |
ja |
ja |
| Upgrade möglich |
ja |
ja |
ja |
(Rückseitenausrichtung) |
(Rückseitenausrichtung) |
Das maskenlose optische Lithografieverfahren (auch als „Direct Laser Writing“ bezeichnet) reduziert den Zeit- und Kostenaufwand bei der Einzelstückfertigung und der Prototypenentwicklung erheblich. Dank der automatischen Auflösungsauswahl kann der Anwender zudem Strukturen mit hoher Geschwindigkeit schreiben und dabei die optimale Auflösung im gesamten Schreibbereich beibehalten. Die automatische Fokussierung in Verbindung mit einem Werkzeug zur Inspektion der Substratoberfläche ermöglicht das Beschreiben auch auf unebenen, schrägen und gewölbten Substraten.
Der Virtual Mask Aligner (VMA) ist ein Werkzeug zur Projektion der zu schreibenden Struktur auf das Live-Bild der Probe, das von einer Kamera geliefert wird. Dieses Werkzeug vereinfacht die Handhabung beim Mikrokontaktieren, beim Schreiben auf bereits vorhandene Strukturen und beim mehrstufigen Schreiben.
Das integrierte Profilmessgerät bietet die Möglichkeit, das Oberflächenprofil der Probe einzusehen, und ermöglicht gleichzeitig die automatische Korrektur von Unebenheiten während des Schreibvorgangs. Die Software ermöglicht die Darstellung des Profils in Schnitten entlang der x- und y-Achse sowie gegebenenfalls den Export der Daten zur weiteren Analyse.
Die Höhenkorrektur während der Aufzeichnung (Funktion focus lock) ermöglicht die Aufzeichnung auf unebenen (schrägen, gewölbten usw.) Substraten.
Das Tool Wide Field Viewer ermöglicht eine großflächige Ansicht der Probe durch das Zusammenfügen von Kameraaufnahmen mit wählbarer Vergrößerung unter Verwendung der vorhandenen Mikroskopobjektive. Dies erleichtert das Auffinden kleiner Elemente auf großflächigen Proben.
Die automatische Erkennung von Markern und die Ausrichtung der Probe erleichtern Mehrfachbelichtungen des Fotolacks und erhöhen die Wiederholgenauigkeit beim Belichten von Strukturen. Das Gerät kann zudem um ein Tool zur Suche nach Markern auf der Rückseite des Substrats (Backside Alignment) erweitert werden.
Die automatische Generierung sowie das Einlesen von QR-Codes ist nun für alle Modelle der Microwriter ML3-Serie verfügbar.
Die Wahlmöglichkeit der Belichtungswellenlänge (365 nm, 385 nm oder 405 nm) ermöglicht das Belichten einer breiten Palette von Fotolacken (Breitband-, g-, h- und i-Line-Positiv- und Negativlacke, einschließlich des beliebten SU-8). Für noch mehr Flexibilität des Systems bieten wir außerdem eine Dual-Wellenlängen-Variante für jedes der Systeme an. Das bedeutet die Möglichkeit, zwei Belichtungswellenlängen zu nutzen (zum Beispiel 365 nm und 405 nm).
Ein weiteres Highlight ist das Kommunikationsmodul, das Sie automatisch über den Abschluss eines Auftrags informiert, beispielsweise durch eine Benachrichtigung in Ihrem E-Mail-Postfach.
Der Einsatz einer LED-Lichtquelle mit langer Lebensdauer (5 Jahre garantiert) reduziert die Betriebskosten auf ein Minimum.
