Die extrem stabile planare Positionierplattform NPP-1 von Sios Messtechnik ist in erster Linie für die Bestückung mit einem AFM (oder einem anderen Sensortyp) vorgesehen. Es handelt sich um eine Plattform mit großem Verfahrbereich und präziser interferometrischer Positionsmessung. Die Plattform kann mit praktisch jedem Sensortyp bestückt werden, der eine stabile, wiederholbare und präzise Positionierung der Probe erfordert.
Hauptmerkmale
- 2,5-D-Positionier- und Messsystem mit höchster Genauigkeit und Stabilität
- Mess- und Positionierbereich: Ø 100 mm
- Laterale Messauflösung ≤ 0,02 nm
- Steuerung: 3 differentielle Laserinterferometer
- Metrologische Wiederholgenauigkeit dank stabilisierter HeNe-Laser
- Die offene Systemarchitektur ermöglicht den Einsatz von Sensoren nach Kundenwunsch (typischerweise AFM)
- Benutzeroberfläche: Sios-Software / API-Schnittstelle
Typische Anwendungen
- Nanopositionierung, Nanomanipulation, Nanostrukturierung
- Bearbeitung und Messung mikroelektronischer und mikromechanischer Komponenten
- Messungen in der Optik und Mikrosystemtechnik mit Nanometer-Genauigkeit über große räumliche Bereiche
- kontinuierliches AFM-Scannen auf großen Flächen
