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J.A. Woollam Co.

Anwendungsbereiche:

Mikrofokus-Mapping-Ellipsometer RC2® XF

Das spektroskopische Ellipsometer RC2 von J.A. Woollam mit der neuen Dual-RCE-Technologie (Rotating Compensator Ellipsometry) ermöglicht schnelle und hochpräzise Messungen einer breiten Palette von Materialien, wie z. B. organische Materialien, Dielektrika, Halbleiter und Metalle. Es handelt sich um ein Mikrofokus-Ellipsometer in PCSCA-Konfiguration (Polarizer-Compensator-Sample-Compensator-Analyzer). Dank der Dual-RCE-Technologie misst das RC2 kontinuierlich (ohne Einzelpunkte) und mit hoher Empfindlichkeit über den gesamten Bereich der ellipsometrischen Werte.

Es wird zur Charakterisierung dünner Schichten mit Mikrostrukturen oder flächigen Inhomogenitäten sowie zur Bestimmung der Schichtdicke, der optischen Eigenschaften, des komplexen Brechungsindex, des Absorptionskoeffizienten und weiterer Parameter eingesetzt.

Das System ist in zwei Varianten des Spektralbereichs erhältlich: 193–1000 nm und 193–1500 nm. Das gesamte Spektrum wird gleichzeitig erfasst, und zwar im Zehntel- bis Ein-Sekunden-Bereich (abhängig von der Datenmittelung). Bei beiden Varianten beträgt der Einfallswinkel konstant 65°.

Hauptmerkmale

  • Das präziseste CCD-basierte Ellipsometer
  • Messung der vollständigen Mueller-Matrix
  • Dual-RCE Technologie mit zwei rotierenden Kompensatoren
  • Spektralbereich bis zu 193–1500 nm bei gleichzeitiger Erfassung des gesamten Spektrums
  • Größe des Messflecks 25 µm x 40 µm

Die Ellipsometer der RC2-Serie sind mit einem vollautomatischen Datenerfassungssystem ausgestattet. Die motorisierte Positionierung ermöglicht eine automatische Abtastung der Probe mit Mikrofokussierung auf eine Messfleckgröße von 25 µm × 40 µm (oder wahlweise 25 µm × 60 µm).

Richard Schuster
Fachberater

Ing. Richard Schuster

+420 601 123 593

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Produktbeschreibung

  • RC2 ist das erste spektroskopische Ellipsometer, mit dem alle 16 Elemente der Mueller-Matrix über das gesamte Spektrum gemessen werden können, wodurch sich selbst die anspruchsvollsten Proben und Nanostrukturen charakterisieren lassen. So lassen sich beispielsweise Schichten charakterisieren, die depolarisierend und anisotrop zugleich sind.
    So können wir beispielsweise Mehrschichtstrukturen mit Flüssigkristallen, Schichten aus geordneten plasmonischen Nanopartikeln und vieles mehr messen.
  • Das patentierte Design mit achromatischen rotierenden Kompensatoren ist die optimale Lösung für breite spektrale Messbereiche sowie langfristige Stabilität, Zuverlässigkeit und Langlebigkeit des Geräts.
  • Das modulare Design ermöglicht variable Messkonfigurationen, ganz gleich, ob Sie eine große Fläche der Probe mit einem fokussierten Strahl für eine hohe räumliche Auflösung abbilden müssen oder das Wachstum von Schichten in situ messen möchten, oder ob Sie sich für Messungen in einer Durchflusszelle oder einfach nur für gewöhnliche Punktmessungen interessieren – für all das bietet ein einziges Gerät die Lösung: das RC2.

Dank der Kombination aus langjähriger Erfahrung und innovativen Lösungen präsentiert J.A.Woollam ein Gerät mit unübertroffenen Möglichkeiten für schnelle und präzise spektroskopische Ellipsometrie – sowohl im Standardmodus (SE) sowie der verallgemeinerten (g-SE) und der vollständigen Mueller-Matrix (MM-SE).

Parameter

Design Focused Dual RCE (PCSCA)
Einfallswinkel 65°
Detektor

CCD

Datenerfassungsgeschwindigkeit (Gesamtspektrum)

0,3 Sekunden für das gesamte Spektrum

Spektralbereich

max.: 193 – 1500 nm
(gesamtes Spektrum auf einmal)

Dokumente

RC2 XF Datenblatt

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