| Model |
ML® 3 Baby |
ML® 3 Baby Plus |
ML® 3 Mesa |
ML® 3 Pro |
ML® 3 Pro XL |
|
Rozlišení
|
1 - 5 µm
(1 objektiv)
|
až 0.6 - 5 µm
(2 objektivy)
|
0.6 - 5 µm
(3 objektivy)
|
až 0.4 - 5 µm
(až 5 objektivů)
|
až 0.4 - 5 µm
(až 5 objektivů)
|
| Rychlost zápisu [mm2/min] |
50 |
50 – 180 |
17 – 180 |
10 – 180 |
10 – 180 |
|
Vlnová délka [nm]
|
405
(a/nebo 365, 385)
|
405
(a/nebo 365, 385)
|
405
(a/nebo 365, 385)
|
385
(a/nebo 365, 385)
|
385
(a/nebo 365, 385)
|
|
Mikroskopové objektivy
|
3x až 10x
(1 ks z nabídky)
|
3x až 20x
(2 ks z nabídky)
|
3x až 20x
(3 ks z nabídky)
|
3x až 50x
(až 5 ks z nabídky)
|
3x až 50x
(až 5 ks z nabídky)
|
| Grayscale litografie |
ano (255 úrovní) |
ano (255 úrovní) |
ano (255 úrovní) |
ano (až 768 úrovní) |
ano (až 768 úrovní) |
| Rozlišení polohovacího XY stolku [nm] |
15 |
15 |
15 |
4 |
4 |
| Rozlišení XY interferometru [nm] |
15 |
15 |
15 |
1 |
1 |
| Min. adresovatelná síť [nm] |
100 |
60 |
30 |
30 (option: 12,5) |
30 (option: 12,5) |
| Maximální rozměry substrátu [mm] |
155 x 155 x 7 |
155 x 155 x 7 |
155 x 155 x 7 |
230 x 230 x 15 |
až 300 x 300 x 175 |
| Zapisovací oblast [mm] bez omezení v rozích |
149 x 149 |
149 x 149 |
149 x 149 |
195 x 195 |
295 x 295 |
| Optický profiloměr |
ne |
ano |
ano |
ano |
ano |
| Virtual Mask Aligner |
ne |
volitelně |
volitelně |
ano
|
ano
|
| Multiple chips option |
ne |
volitelně |
volitelně |
ano
|
ano
|
| Teplotní stabilizace |
ne |
volitelně |
volitelně |
ano |
ano |
| Optický stůl pro izolaci vibrací |
volitelně |
volitelně |
volitelně |
ano |
ano |
| Možný upgrade |
ano |
ano |
ano |
(backside alignment) |
(backside alignment) |
Přímý bezmaskový zápis (maskless optical lithography, nebo také direct laser writing) výrazně snižuje časovou i finanční náročnost při kusové produkci a tvorbě prototypů. Díky automatické volbě rozlišení je uživateli navíc umožněno zapisovat struktury vysokou rychlostí při zachování optimálního rozlišení v celé oblasti zápisu. Automatická fokusace společně s nástrojem pro inspekci povrchu substrátu umožňuje zápis i na nerovné, šikmé a prohnuté substráty.
Virtual Mask Aligner (VMA) je nástroj pro promítnutí zapisované struktury na živý obraz vzorku z kamery. Tento nástroj zjednodušuje manipulaci při mikrokontaktování, při zápisu na již existující struktury a při více-krokovém zápisu.
Integrovaný profiloměr nabízí možnost náhledu povrchového profilu vzorku a současně umožňuje automatické provádění korekcí nerovností během zápisu. Software umožňuje zobrazení profilu v řezech podél os x a y, případně export dat pro další analýzu.
Výšková korekce během zápisu (funkce focus lock) umožňuje zápis na nerovné (šikmé, vyboulené, atd.) substráty.
Nástroj Wide Field Viewer umožňuje široký náhled na vzorek pomocí stitchingu snímků z kamery s volitelným zvětšením pomocí přítomných mikroskopových objektivů. To usnadňuje hledání malých elementů na vzorcích o velké ploše.
Automatické rozpoznání markerů a zarovnání vzorku usnadňuje vícenásobné zápisy do fotorezistu a zvyšuje opakovatelnost při zápisu struktur. Přístroj je navíc možné rozšířit o nástroj pro hledání markerů na spodní straně substrátu (backside alignment).
Automatické generování i čtení QR kódů je nově dostupné pro všechny modely z řady Microwriter ML3.
Volitelnost vlnové délky osvitu (365 nm, 385 nm nebo 405 nm) umožňuje zápis na širokou škálu fotorezistů (broadband, g-, h-, i- line pozitivní i negativní rezisty včetně populárního SU-8). Pro ještě větší flexibilitu systému máme v nabídce také dual-wavelength variantu pro jakýkoliv ze systémů. Tedy možnost využití dvouzapisovacích vlnových délek (například 365 nm a 405 nm).
Další z řady vychytávek je komunikační modul, který vám automaticky oznámí dokončení úlohy například notifikací do vaší e-mailové schránky.
Použití LED zdroje s dlouhou životností (garantováno 5 let) snižuje provozní náklady na minimum.
