MicroWriter ML3
| VÝROBCE: |
|
Quantum Design Europe | KATEGORIE: |
MicroWriter ML®3 je přístroj určený pro přímý (bezmaskový) optický záznam mikrostruktur do fotorezistů. Umožňuje výrobu elementů se sub-mikronovým rozlišením i s velkými poměrem stran pro ty nejnáročnějí aplikace (od mikrokontaktování přes tvorbyu difraktivních struktur po mikrofluidiku). 3D zápis ve stupních šedi rozšiřuje využitelnost i na tvorbu optických mikroelementů (mikročočky, blejzované mřížky).
Unikátně vysoká rychlost díky plošnému zápisu společně s integrovanými nástroji pro zvýšení efektivity posouvají uživatelskou zkušenost na novou úroveň. Microwriter ML3 je pro svou vysokou míru flexibility ideální pro účely výzkumu a vývoje a pro tvorbu prototypů.
Aplikace
Přístroje umožňují rychlý a jednoduchý návrh a přípravu:
- fotonických prvků
- MEMS/NEMS struktur
- lab-on-a-chip a mikrofluidních elementů
- difraktivních struktur
- prvků pro THz aplikace
- struktur pro mikroelektroniku a spintroniku.
MicroWriter rovněž umožňuje si vytvořenou strukturu zobrazit a případně upravit nebo doplnit díky automatickému zarovnání vzorku.
Hlavní přednosti
- Rozlišení až 400 nm
- Rychlost zápisu až 180 mm2/min
- Automatická volba rozlišení
- Možnost dual-wavelength systému (365 nm a 405 nm)
- Vizualizace struktury na obraz vzorku před zápisem
- Možnost realizace 3-D struktur
- Korekce nerovností vzorku (wedge/bow)
- Uživatelsky přívětivý software
- Skvělý poměr cena / výkon
- Komunikační modul - e-mailové notifikace o stavu úloh
Máte zájem o MicroWriter ML3
Potřebujete radu?
Přímý bezmaskový zápis (maskless optical lithography, nebo také direct laser writing) výrazně snižuje časovou i finanční náročnost při kusové produkci a tvorbě prototypů. Díky automatické volbě rozlišení je uživateli navíc umožněno zapisovat struktury vysokou rychlostí při zachování optimálního rozlišení v celé oblasti zápisu. Automatická fokusace společně s nástrojem pro inspekci povrchu substrátu umožňuje zápis i na nerovné, šikmé a prohnuté substráty.
Virtual Mask Aligner (VMA) je nástroj pro promítnutí zapisované struktury na živý obraz vzorku z kamery. Tento nástroj zjednodušuje manipulaci při mikrokontaktování, při zápisu na již existující struktury a při více-krokovém zápisu.
Integrovaný profiloměr nabízí možnost náhledu povrchového profilu vzorku a současně umožňuje automatické provádění korekcí nerovností během zápisu. Software umožňuje zobrazení profilu v řezech podél os x a y, případně export dat pro další analýzu.
Výšková korekce během zápisu (funkce focus lock) umožňuje zápis na nerovné (šikmé, vyboulené, atd.) substráty.
Nástroj Wide Field Viewer umožňuje široký náhled na vzorek pomocí stitchingu snímků z kamery s volitelným zvětšením pomocí přítomných mikroskopových objektivů. To usnadňuje hledání malých elementů na vzorcích o velké ploše.
Automatické rozpoznání markerů a zarovnání vzorku usnadňuje vícenásobné zápisy do fotorezistu a zvyšuje opakovatelnost při zápisu struktur. Přístroj je navíc možné rozšířit o nástroj pro hledání markerů na spodní straně substrátu (backside alignment).
Volitelnost vlnové délky osvitu (365 nm, 385 nm nebo 405 nm) umožňuje zápis na širokou škálu fotorezistů (broadband, g-, h-, i- line pozitivní i negativní rezisty včetně populárního SU-8). Pro ještě větší flexibilitu systému máme v nabídce také dual-wavelength variantu pro jakýkoliv ze systémů. Tedy možnost využití dvouzapisovacích vlnových délek (například 365 nm a 405 nm).
Další z řady vychytávek je komunikační modul, který vám automaticky oznámí dokončení úlohy například notifikací do vaší e-mailové schránky.
Použití LED zdroje s dlouhou životností (garantováno 5 let) snižuje provozní náklady na minimum.
Související články
Novinky v přímé optické litografii
Mikroelektronika
Design mikročipůMáte zájem o MicroWriter ML3? Potřebujete radu?
Pomůže Vám specialista sekce Richard Schuster, případně využijte naše další kontakty.