Laserový litograf Microwriter ML3 Baby Plus Dual-Wave
- Model Microwriter ML3 Baby Plus s Dual-Wavelength
- Zdroj osvitu: duální 365 nm + 405 nm
- Rozlišení: 0,6 + 5 µm
Zadání a požadavky klienta
Sestava umožňující zápis struktur s vysokým rozlišením s možností zápisu na velké plochy i na několik (i sub-milimetrových) fragmentů současně.
Možnost vícenásobného zápisu s přesným zarovnáním struktur (< 0,5 µm).
Duální zdroj osvitu 365 nm a 405 nm s automatickým přepínáním dle fotorezistu.
Stabilní systém pro časově náročné, velkoplošné zápisy ve vysokém rozlišení.
- Mikro-kontaktování s přesným zarovnáním (< 500 nm)
- Rychlý, velkoplošný zápis (až 150 mm x 150 mm)
- Vysoké rozlišení: 600 nm
- Zápis ve stupních šedé
Naše řešení
V listopadu 2021 jsme pro Ústav přístrojové techniky, AV ČR instalovali Microwriter ML3 Baby+ Dual-Wave od britského výrobce Durham Magneto Optics Ltd. (DMO).
Jedná se o sestavu s volitelným rozlišením 0,6 µm a 5 µm s možností dalšího rozšíření a s vysoce přesným polohovacím systémem se středním rozsahem zápisu (150 mm x 150 mm).
Duální zdroj osvitu je novinkou pro optimální zápis na širokou škálu fotorezistů (g-, h-, i-line a broadband fotorezisty). Konstrukčně je řešeno pomocí dvou osvitových jednotek (výkonné úzkopásmové LED: 365 nm a 405 nm) s automatickým přepínáním dle potřeb uživatele.
Funkce integrovaného profilometru umožňuje mj. ověření zápisu po vyvolání struktury.
Zápis i ve stupních šedi je umožněn při zachování vysoké rychlosti plošného zápisu a to ve 256 úrovních intenzity.
Parametry zařízení
- Vlnová délka zdroje: 365 nm + 405 nm
- Rozlišení zápisu: 600 nm, 5000 nm
- Počet objektivů: 2 (zvětšení 3x až 20x) s možností budoucího rozšíření a s digitálním zoomem.
Další funkce: wide field viewer, integrovaný profilometr, autofocus, focus lock, virtuální rotace, automatické centrování vzorku, automatická detekce hran, automatické rozpoznání markerů
Související produkty
- Dodání systému
- Instalace
- Servis
Listopad 2021