Nanopolohovací platforma NPP-1
Extrémně stabilní planární polohovací platforma NPP-1 od Sios Messtechnik je určena primárně pro osazení AFM (či jiný typem senzoru). Jedná se o platformu s velkým rozsahem a přesným interferometrickým odměřováním polohy. Platformu lze osadit prakticky libovolným typem senzoru, který vyžaduje stabilní, opakovatelné a přesné polohování vzorku.
Klíčové vlastnosti:
- 2,5-D polohovací a měřicí systém s nejvyšší přesností a stabilitou
- Rozsah měření a polohování: Ø 100 mm
- Laterální rozlišení měření ≤ 0,02 nm
- Řízení: 3 diferenciální laserové interferometry
- Metrologická opakovatelnost díky stabilizovaným HeNe laserům
- Otevřená architektura zařízení umožňuje použití senzorů podle přání zákazníka (typicky AFM)
- Uživatelské rozhraní: Sios Software / API rozhraní
Typické aplikace:
- nanopolohování, nanomanipulace, nanostrukturování
- zpracování a měření mikroelektronických a mikromechanických komponent
- měření optiky, mikrosystémové techniky s nanometrovou přesností ve velkých prostorových rozmezích
- kontinuální skenování AFM na velkých plochách
Máte zájem o Nanopolohovací platforma NPP-1
Potřebujete radu?
Související produkty
Diferenční laserový interferometr SP-DI
AFSEM pro korelativní mikroskopiiMáte zájem o Nanopolohovací platforma NPP-1? Potřebujete radu?
Pomůže Vám specialista sekce Richard Schuster, případně využijte naše další kontakty.