- Optixs
- Produkty
- Měření povrchů a vrstev
- Spektroskopické elipsometry
- Mapovací elipsometr RC2® XF s mikrofokusem
Mapovací elipsometr RC2® XF s mikrofokusem
VÝROBCE: | J.A. Woollam CO. | KATEGORIE: |
Spektroskopický elipsometr RC2 od J.A. Woollam s novou technologií Dual RCE (Rotating Compensator Ellipsometry) umožňuje rychlé a vysoce přesné měření široké škály materiálů jako např. organických materiálů, dielektrik, polovodičů i kovů. Jedná se o mikrofokusační elipsometr v konfiguraci PCSCA (Polarizer-Compensator-Sample-Compensator-Analyzer). Díky technologii Dual RCE měří RC2 spojitě (bez singulárních bodů) a s vysokou senzitivitou v celém rozsahu elipsometrických hodnot.
Používá se pro charakterizaci tenkých vrstev s mikrostrukturami nebo plošnými nehomogenitami, pro zjištění tloušťky vrstvy, optických vlastností, komplexního indexu lomu, koeficientu absorpce a dalších.
Systém je k dispozici ve dvou variantách spektrálního rozsahu: 193 - 1000 nm a 193 - 1500 nm. Kompletní spektrum je snímání současně, v řádu desetin až jednotek sekund (v závislosti na průměrování dat). V obou variantách s fixním úhlem dopadu 65°.
Klíčové vlastnosti
- Nejpřesnější elipsometr na bázi CCD
- Měření kompletní Muellerovy matice
- Dual RCE technologie se dvěma rotujícími kompenzátory
- Spektrální rozsah až 193 - 1500 nm při simultánní detekci celého spektra
- Velikost měřicí stopy 25 µm x 40 µm
Elipsometry řady RC2 jsou vybaveny plně automatizovaným systémem sběru dat. Motorizované polohování který umožňuje automatické mapování vzorku s mikrofokusací na velikost stopy 25 µm x 40 µm (nebo volitelně 25 µm x 60 µm).
Máte zájem o Mapovací elipsometr RC2® XF s mikrofokusem
Potřebujete radu?
Parametry
Design | Focused Dual RCE (PCSCA) | |
Úhel dopadu | 65° | |
Detektor |
CCD |
|
Rychlost sběru dat (celkové spektrum) |
0.3 sekundy na kompletní spektrum |
|
Spektrální rozsah |
max : 193 - 1500 nm |
- RC2 je prvním spektroskopickým elipsometrem umožňujícím měřit všech 16 prvků Muellerovy matice v celém spektru, což umožňuje charakterizovat i ty nejnáročnější vzorky a nanostruktury. Například lze charakterizovat vrstvy, které jsou depolarizující a anizotropní současně.
Například tak můžeme měřit multivrstvy s tekutými krystaly, vrstvy uspořádaných plazmonických nanočástic a mnohé další. - Patentovaný design využívající achromatických rotujících kompenzátorů je optimálním řešením pro široké spektrální měřicí rozsahy i dlouhodobou stabilitu, spolehlivost a životnost zařízení.
- Modulární design umožňuje variabilitu konfigurace měření, ať už potřebujete zmapovat velkou plochu vzorku s fokusovaným svazkem pro vysoké prostorové rozlišení, nebo chcete měřit růst vrstev in situ, případně vás zajímá měření v průtokové cele, nebo jen obyčejné bodové měření, na vše může nabídnout řešení jediný přístroj: RC2.
Díky kombinaci dlouholetých zkušeností a inovativních řešení tak J.A.Woollam představuje přístroj s bezkonkurenčními možnostmi rychlé a přesné spektroskopické elipsometrie - a to jak standardní (SE), tak i zobecněné (g-SE) a kompletní Muellerovy matice (MM-SE).
Dokumenty
Související články
Související produkty
Máte zájem o Mapovací elipsometr RC2® XF s mikrofokusem? Potřebujete radu?
Pomůže Vám specialista sekce Richard Schuster, případně využijte naše další kontakty.