Fotolitograf pro tvorbu mikrostruktur

Nejvyšší řada Microwriter ML3 PRO
Zdroj osvitu: 365 nm (optimalizace pro i-line fotorezisty)
Rozlišení: volitelné v rozsahu 0,6 - 5 µm

Zadání a požadavky klienta

Sestava umožňující zápis struktur s vysokým rozlišením s možností zápisu na velké plochy i na několik (i sub-milimetrových) fragmentů současně.

Možnost vícenásobného zápisu s přesným zarovnáním a možností virtuálního náhledu před zápisem.

Zdroj osvitu vhodný pro širokou škálu fotorezistů (g-, h-, i-line a broadband fotorezisty), optimalizovaný pro i-line rezisty (např. SU-8).

Stabilní systém pro časově náročné, velkoplošné zápisy ve vysokém rozlišení.

Minimální chyba zarovnání při vícenstupňovém zápisu (< 0,5 µm)
Rychlý, velkoplošný zápis se stabilizací teploty (± 0,25 °C)
Velký rozsah hloubky zápisu (od submikronových vrstev po stovky mikrometrů)

Naše řešení

V srpnu 2021 jsme pro Ústav analytické chemie, AV ČR instalovali Microwriter ML3 Pro od britského výrobce Durham Magneto Optics Ltd. (DMO). Jednou z hlavních aplikací je tvorba struktur pro mikrofluidiku.

Jedná se o sestavu s volitelným rozlišením v rozsahu 0,6 µm až 5 µm, s vysoce přesným polohovacím systémem.

Zdroj osvitu s vlnovou délkou 365 nm a vysokým optickým výkonem je optimální pro i-line fotorezisty, ale umožňuje i zápis na běžné g-line a h-line fotorezisty.

Teplotní stabilizace zajišťuje maximální stabilitu i pro delší zapisovací úlohy (typicky pro kombinace vysokého rozlišení a velké plochy, nebo hloubkového záznamu na velké ploše – typické pro mikrofluidiku).

Funkce integrovaného profilometru umožňuje mj. ověření zápisu po vyvolání struktury.

Funkce Virtual mask aligner (VMA) pro přesné zarovnání zápisu na existující struktury poslouží pro přesné a snadné mikro-kontaktování. Microwriter ML3 navíc umožňuje zápis i ve stupních šedi.

Parametry zařízení

Vlnová délka zdroje: 385 nm
Teplotní stabilizace: ± 0,25 °C
Rozlišení zápisu: 600 nm, 1000 nm, 2000 nm a 5000 nm
Počet objektivů: 4 (zvětšení 3x až 20x
Další funkce: VMA, wide field viewer, integrovaný profilometr, autofocus, focus lock, virtuální rotace, automatické centrování vzorku, automatická detekce hran, automatické rozpoznání markerů.