Optický litograf Microwriter ML3 Pro

---

Zadání a požadavky klienta

Sestava umožňující zápis struktur s vysokým rozlišením a s možností zápisu na velké plochy i na několik sub-milimetrových fragmentů současně.

Možnost vícenásobného zápisu s přesným zarovnáním a možností virtuálního náhledu před zápisem.

Zdroj osvitu sestavy musel být vhodný pro širokou škálu fotorezistů (g-, h-, i- line a broadband fotorezisty).

Stabilní systém pro časově náročné, velkoplošné zápisy ve vysokém rozlišení.

Dále:

• Mikro-kontaktování s přesným zarovnáním (<< 500 nm)
• Rychlý, velkoplošný zápis se stabilizací teploty
• Vysoké rozlišení: 600 nm
• Možnost velkoplošných zápisů až 195 mm x 195 mm
• Tvorba vlnovodných a dalších fotonických struktur

Naše řešení

Microwriter ML3 Pro od britského výrobce Durham Magneto Optics Ltd. (DMO).

Jedná se o sestavu s rozlišením 600 nm, s vysoce přesným polohovacím systémem.

Zdroj osvitu s vlnovou délkou 385 nm a vysokým optickým výkonem umožňuje zápis na běžné g-line a h-line fotorezisty, ale také oblíbený i-line fotorezist SU-8.

Teplotní stabilizace zajišťuje maximální stabilitu i pro delší zapisovací úlohy.

Funkce integrovaného profilometru umožňuje mj. ověření zápisu po vyvolání struktury.

Funkce Virtual mask aligner (VMA) pro přesné zarovnání zápisu na existující struktury poslouží pro přesné a snadné mikro-kontaktování. Možnost zápisu ve stupních šedi.

Parametry zařízení

• Vlnová délka zdroje: 385 nm
• Teplotní stabilizace: ± 0,25 °C
• Rozlišení zápisu: 600 nm, 1000 nm, 2000 nm a 5000 nm
• Počet objektivů: 4 (zvětšení 3x až 20x + digitální zoom)
• Další funkce: VMA, wide field viewer, integrovaný profilometr, autofocus, focus lock, virtuální rotace, automatické centrování vzorku, automatická detekce hran

 

Související produkty

Další fotografie