Poptat řešení
KLA Instruments - Logo
KLA Instruments

Aplikační oblasti:

Filmetrics® F54-XY-200 a F54-XY-300

Řada Filmetrics® F54-XY poskytuje automatizované mapování tloušťky tenkých vrstev, indexu lomu, odrazivosti, absorpce a drsnosti povrchu na vzorcích až do 300 mm. Nabízí pět konfigurací s rozsahem měření od 4 nm do 120 µm a velikostí měřicího bodu od 2 µm do 100 µm.

Klíčové vlastnosti

  • Podpora měření strukturovaných i nestrukturovaných vzorků
  • Konfigurace s rozsahy vlnových délek 190 – 1700 nm
  • Minimální velikost měřicího bodu 5 µm
  • Autofokus a rozpoznávání vzorů
  • Bezpečnostní kryt s blokováním (interlock)
  • Živý video obraz
  • Podpora vzorků do průměru 300 mm
  • Uživatelsky definovatelné mapovací body (pravoúhlé, lineární, polární i vlastní konfigurace)
  • Manuální nebo automatické zarovnání vzorku
  • Pokročilá historie pro ukládání, reprodukování a vykreslování výsledků
  • Vestavěné referenční a tloušťkové standardy
  • Rozsáhlá knihovna materiálů a pokročilé modelovací algoritm
Richard Schuster
Odborný poradce

Ing. Richard Schuster

+420 601 123 593

schuster@optixs.cz

Zaslat poptávku

OptiXs care

  • Odborně zkonzultujeme vaši plánovanou aplikaci
  • Náš tým je schopen produkt integrovat i do většího systému
  • Zajistíme rychlé dodání náhradních dílů a lokální servis
S čím dalším můžeme pomoci

Popis produktu

Automatizované systémy Filmetrics® F54-XY-200 a F54-XY-300 měří tloušťku tenkých vrstev na strukturovaných i nestrukturovaných vzorcích do průměru 200 mm, resp. 300 mm. Mapování probíhá pomocí pokročilého systému spektrální reflektance a algoritmů Filmetrics.

Kompaktní systém přináší přesné polohování měření do výrobních aplikací. Motorizovaný XY-200 stůl se automaticky přesouvá na specifikovaná měřicí místa a poskytuje výsledky rychlostí až dva body za sekundu. Měření waferů o průměru 300 mm je podporováno díky přídavnému vysoce výkonnému rotačnímu stolu v konfiguraci F54-XYT-300.

Aplikace

  • Polovodičové procesní filmy – měření tloušťky polysilikonu, fotorezistů, oxidů, nitridů a vrstev SOI; měření ztenčeného křemíku.
  • Sloučeninové polovodiče – měření tloušťky a optických vlastností vrstev a waferů (např. GaN, SiC).
  • LCD displeje – měření mezer buněk a tloušťky polyimidů, vrstev ITO a TCO.
  • Optické povlaky a elektrooptické filmy – měření tloušťky hardcoatů, antireflexních vrstev a filtrů (modelování více než 10 vrstev).
  • Povlaky pro medicínské aplikace – měření tloušťky a homogenity parylenu a dalších ochranných povlaků na implantátech; možnost automatizovaného měření pole vzorků.
  • MEMS – měření tloušťky fotorezistů, křemíkových membrán a dielektrických vrstev, mapování homogenity pro odhalení vad.

Parametry

Konfigurace F54-XY – zvolte vhodný model podle rozsahu měření
Konfigurace F54-XY – zvolte vhodný model podle rozsahu měření
Model Rozsah tloušťky* Spektrální rozsah
F54-XY 20 nm – 50 µm 380 – 1050 nm
F54-XY-UV 4 nm – 35 µm 190 – 1100 nm
F54-XY-NIR 100 nm – 120 µm 950 – 1700 nm
F54-XY-EXR 20 nm – 120 µm 380 – 1700 nm
F54-XY-UVX 4 nm – 120 µm 190 – 1700 nm

* V závislosti na materiálu a objektivu.

Příslušenství

Standardy pro tloušťku filmů
Standardy pro tloušťku filmů – NIST-traceable standardy pro kalibraci a ověřování přesnosti

Poptat produkt

Máte zájem o produkt? Zašlete nám své požadavky skrze poptávkový formulář nebo využijte přímý kontakt na odborného poradce. Rádi zodpovíme vaše dotazy a navrhneme řešení dle vašich potřeb.

Odborný poradce

Richard Schuster

Ing. Richard Schuster